一、成果简介

目前，国内的微纳制造领域数字掩模3D光刻仪主要依赖进口，同类设备单价超千万元，采购成本高，且后续维修及配件费用昂贵，同时传统设备操作复杂导致高校教学普及率低、学生实操机会少。

本成果的核心技术为“数字投影式多工艺集成光刻技术”，主要由三大模块构成：一是“数字掩模生成模块”，基于DMD（数字微镜器件）技术，通过计算机直接生成数字掩模，无需制作物理掩模，掩模修改周期从传统的7-10天缩短至几分钟，且支持灰度掩模生成，满足3D微纳结构的加工需求；二是 “多工艺集成模块”，采用 “核心模组 + 积木式附件” 设计，在数字光刻核心模组基础上，可灵活添加3D增材制造附件、激光刻蚀附件等，实现 “2D光刻 + 3D增材 + 刻蚀” 多工艺一体化，设备功能扩展成本降低 50% 以上；三是 “智能控制软件模块”，自主研发的控制软件支持参数可视化调节、工艺流程自动化编排，且内置教学模式（含操作教程、故障诊断指引），降低操作门槛，适配高校教学场景。

二、应用领域

本成果可应用于高校科研实验、课堂教学及科研院所微纳制造相关研究，兼具数字二值/灰度光刻和3D微纳增材制造功能，适配不同场景下的微纳加工需求，其具备数字投影免物理掩模制作、积木式功能扩展、国产化低成本三大核心特性，集成多工艺于一体，可满足高校科研团队微纳制造实验、教学单位微纳工艺实操培训。

三、市场前景

从国内市场容量来看，高校与科研院所是微纳光刻仪器的核心需求方。截至2024年，国内开设半导体、微电子、微纳制造相关专业的高校超200所，每所高校平均需3-5台光刻设备支撑科研与教学；同时，国内拥有微纳制造相关实验室的科研院所超150家，加上生物医疗、新能源等领域企业的研发需求，国内光刻设备年需求量超300台。但当前市场需求存在显著 “供需错配”：一是价格错配，进口高端光刻仪器单价超千万元，仅少数高校与重点科研院所有能力采购，其余大部分因预算有限，只能通过外协加工完成实验，或放弃相关领域研究；二是功能错配，进口设备以科研级4/11单一功能为主，操作复杂，需专业技术人员维护，无法适配高校课堂教学场景，导致学生实操机会极少，人才培养效率受限；三是服务错配，进口设备维修周期长达3-6个月，配件需从国外调配，维修费用占设备总价的10%-15%，严重影响科研进度。

按国内年需求300台计算，若采用国产化设备（单价50-100万元）替代进口设备（单价1000万元），每年可为国内市场节省采购成本超27亿元，同时带动上游光学元件、精密机械、软件算法等产业链配套发展，创造新的经济增长点。

四、知识产权

1、成果由北京理工大学单独持有；

2、本成果已授权专利。

五、合作方式

技术转让、技术许可、合作开发、技术服务及咨询等。

六、对接方式

（1）合作意向方联系北理工技术转移中心；

（2）北理工技术转移中心沟通了解意向方情况；

（3）会同成果完成团队与意向方共同研讨合作方案。

北京理工大学技术转移中心

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